6月12日，由上海宝冶参建的国家存储器基地项目（一期）D标段工程顺利通过竣工验收。

该工程位于武汉光谷未来科技城内，主要包括ADB研发大楼和40号、41号、42号和45号等四个门房辅助建筑等，总建筑面积为99700平方米，地上建筑共6层，地下建筑共2层，公司主要负责消防水、喷淋、消防电、火灾报警、暖通、给排水、排烟、电照、供电、自控、空间管理专业的建设。

国家存储器基地项目（一期）D标段工程顺利通过竣工验收是为下一步业主高管和研发人员进驻奠定了基础。项目部将继续保持央企的责任与担当，做好项目后续保障服务工作，为业主及武汉市人民交上一份满意的答卷。